こんなところにフジキンが
半導体製造工程
半導体製造工程において、代表的な装置は、洗浄装置、プラズマCVD装置、イオン注入装置、アニール装置、スパッタリング装置等であり、そのほとんどが高真空、高純度ガス、特殊材料ガスを利用した工程です。
これらの工程では、オイルフリー、パーティクルフリー、デッドスペースフリー、外部リークフリーといった厳しい条件に適合したバルブ・継手が使用されます。さらに、ガス供給システムのコンパクト化、高メンテナンス性を可能にした集積化ガスシステムも多数使用されています。
