水分発生装置
シリーズ概要
◎従来の燃焼式水分発生装置とは異なる
触媒反応を利用し高純度な水分を発生させる。
①触媒を使用した反応炉で従来方式と比較して低温(350℃)で水分を発生させる。
②幅広い濃度制御範囲
1～100%までの水分濃度制御が可能。
③すぐれた安全性
触媒反応プロセスは、従来方式より低温(350℃)で行われます。
これは大気圧における水素と酸素の混合ガス発火温度に対して十分に低く、発火の危険性はありません。
④CEマーキング、SEMI-S2対応
⑤2SLMと5SLMの2種
シリーズスペック詳細
| クリーン度 | 完全禁油 |
|---|
業界別カテゴリ
- エレクトロニクス
- メカトロニクス
- ケミカル
- パブリックラボラトリ
- エネルギー
- バイオメディカル・フード
- ライフサイエンス
業界分類
- エレクトロニクス
- メカトロニクス
- ケミカル
- パブリックラボラトリ
- エネルギー
- バイオメディカル・フード
- ライフサイエンス
水分発生装置
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税込
商品コード： WVG2SLM
◎従来の燃焼式水分発生装置とは異なる
触媒反応を利用し高純度な水分を発生させる。
①触媒を使用した反応炉で従来方式と比較して低温(350℃)で水分を発生させる。
②幅広い濃度制御範囲
1～100%までの水分濃度制御が可能。
③すぐれた安全性
触媒反応プロセスは、従来方式より低温(350℃)で行われます。
これは大気圧における水素と酸素の混合ガス発火温度に対して十分に低く、発火の危険性はありません。
④CEマーキング、SEMI-S2対応
⑤2SLMと5SLMの2種
触媒反応を利用し高純度な水分を発生させる。
①触媒を使用した反応炉で従来方式と比較して低温(350℃)で水分を発生させる。
②幅広い濃度制御範囲
1～100%までの水分濃度制御が可能。
③すぐれた安全性
触媒反応プロセスは、従来方式より低温(350℃)で行われます。
これは大気圧における水素と酸素の混合ガス発火温度に対して十分に低く、発火の危険性はありません。
④CEマーキング、SEMI-S2対応
⑤2SLMと5SLMの2種