社会

知財戦略情報誌「NewテクノマートSO(創)」

単結晶製造装置および単結晶製造方法

次世代半導体用単結晶製造システム

【効果】
半導体材料は高純度高品質が求められ、産業的には高スループットとの要求もある。さらに近年は用途ごとに細やかな機能の割り振りを行う多品種展開も求められている。
当技術はこれらの要求を満たす唯一の方法であるため、当技術の普及により新規高機能半導体の実用化が促進される。

【PR】
従来の半導体産業は同一製品の大量生産が主なモデルであった。ソフトバンクによる買収で記憶に新しいARM社は、モバイル向け個別対応可能なプロセッサのアーキテクチャサプライヤーとして近年プロセッサの巨人であったインテルを遥かに凌ぐシェアを獲得している。
この例が象徴しているように、近年は顧客需要に対応した多品種展開が求められている。半導体用単結晶材料にこの要望を満たす技術は存在せず、当技術は極めて先進的である。

◎動画・関連HPリンク
弊社Ｗｅｂサイト
http://www.akt-lab.jp/
サイエンスブログ
http://blog.goo.ne.jp/akt-lab

文献番号	特許第6006191号
資料請求番号	17040008
用途	次世代半導体用Ga2O3単結晶をはじめ、高純度SiやSiGeなど、従来の坩堝成長法では製造不可能な高品質単結晶の製造に適している。
技術内容	無坩堝で高品質の半導体用単結晶を製造する手法を提供する。例えば、次世代パワー半導体用Ga2O3単結晶は、化学的性質から坩堝を用いた結晶製造方法では高品質の単結晶を製造することができない。当技術では、楕円鏡を利用した赤外線集光加熱を行い、集光部には遮光筒を配置しているために正確な加熱の元で高品質の半導体単結晶を製造することができる。
権利者	㈱アドバンスト・キー・テクノロジー研究所
権利者関連リンク	単結晶製造装置および単結晶製造方法

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(敬称略)

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