同軸磁化プラズマ生成装置と同軸磁化プラズマ生成装置を用いた膜形成装置
同軸磁化プラズマによる強力な膜の形成


本発明の同軸磁化プラズマ生成装置は、高電離度、高密度のプラズマ塊を連続的に安定して生成し、高速で放出できるため、膜形成材料を塗布した基板にプラズマ塊を照射することにより、基板に強力な膜を簡単に形成することができる。
文献番号 | 特許第4769014号 |
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資料請求番号 | 12050001 |
用途 | プラズマ塊を連続的に安定して生成できる同軸磁化プラズマ生成装置の提供、及び放出するプラズマ塊を用いて膜形成装置を簡単に構成すること。 |
技術内容 | 本発明は、プラズマ塊(スフェロマックプラズマ)を生成する同軸磁化プラズマ生成装置とプラズマ塊を用いて基板に膜を形成する膜形成装置に関する。 ①従来の同軸磁化プラズマ生成装置は、一回のコンデンサの充電によりプラズマ塊を連続的に生成することは困難である。また、プラズマ塊を連続的に生成する場合、各プラズマ塊毎に放電の位置が変わってしまい、所定の間隔で連続的に安定してプラズマ塊を生成することが困難である。 ②従来のイオンプレーティング装置は、プラズマ生成手段に加えて膜形成材料の加熱手段や蒸発した粒子の加速手段が必要で装置および操作も複雑になり、また、生成するプラズマの電離度が低いため、膜形成材料の蒸発粒子のイオン化率が低く、膜形成能率も低い。 |
権利者 | 学校法人日本大学 |
技術関連リンク | インラインスパッタ装置 プラズマ温度制御装置 |
権利者関連リンク | リベットによる板材の接合方法、接合構造 微小バブル発生装置、微小吐出孔ノズル及びその製造方法 同軸磁化プラズマ生成装置 3-デアザプリンヌクレオシド誘導体、3-デアザプリンヌクレオチド誘導体及びポリヌクレオチド誘導体 シメン及びリモネンの合成方法 文字入力装置、文字入力方法およびプログラム 化合物、分散剤、複合体および分散液 回生ブレーキシステム |
(敬称略)