知財・人財宝_®・技財・資財 戦略情報誌 Newテクノマート「SO(創)」

配線パターンの形成方法

表面形状が平坦かつ欠陥のない良質なグラフェン構造を含むグラファイト膜の製造方法と、グラファイト膜を用いた配線パターンの形成技術

【効果】
結晶性が高く、欠陥のない構造をした低抵
抗なグラフェン膜を得ることが可能になる。
　
【希望】
企業と共同研究を希望する。

文献番号	特許第5920808号
資料請求番号	14110004
用途	集積回路など電子デバイスの配線
技術内容	近年、電子デバイスの配線微細化に伴い銅に代わる配線用材料としてグラフェン膜が着目されている。しかしながら、結晶性が高く欠陥が少ない高い品質のグラフェン膜を得るのが困難であった。そこで結晶性が高く欠陥が少ないグラフェン膜を形成する技術を開発した。 触媒層を有する基材の触媒層に対して電流を流しつつ、基材に対して炭素源となる気体を供給することで結晶性が高く表面が平坦なグラフェンを製造する方法。
権利者	学校法人 芝浦工業大学
権利者関連リンク	ナノカーボン材料含有ゲルの製造方法 1. 発泡金属用前駆体および発泡金属の製造方法、 　 並びに前記製造方法で製造された発泡金属用前駆体および発泡金属 2. 傾斜機能材料前駆体及び傾斜機能材料の製造方法、 　 並びに傾斜機能材料前駆体及び傾斜機能材料

(敬称略)